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同时，金属纳米镀膜设备，人们把另一类气相沉积，即通过高温加热金属或金属化合物蒸发成气相，或者通过电子、等离子体、光子等荷能粒子的能量把金属或化合物靶溅射出相应的原子、离子、分子(气态)，在固体表面上沉积成固相膜，纳米镀膜设备，其中不涉及到物质的化学反应(分解或化合)，称为物理气相沉积pvd)。

随着气相沉积技术的发展和应用，汽车配件纳米镀膜设备，上述两类型气相沉积各自都有新的技术内容，金属配件纳米镀膜设备，两者相互交叉，你中有我，我中有你，致使难以严格分清是化学的还是物理的。

物理气相沉积是真空条件下采用物理方法把欲涂覆物质沉积在工件表面上形成膜的过程，通常称为pvd法。在进行pvd处理时，工件的加热温度一般都在600℃以下，这对于用高速钢、合金模具加工钢及其他钢材制造的模具加工都具有重要意义。目前，常用的有三种物理气相沉积方法，即真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀，其中，离子镀在模具加工制造中的应用较广。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。