真空镀膜设备价格-镀膜设备-拉奇纳米

化学气相沉积tin

将经清洗、脱脂和氨气还原处理后的模具工件，置于充满h2（体积分数为99.99%）的反应器中，加热到900-1100℃，通入n2（体积分数为99.99%）的同时，并带入气态ticl4（分数不低于99.0%）到反应器中，则在工件表面上发生如下化学反应：

2ticl4（气）+n2（气）+4h2（气）***2tin（固）+8hcl（气）

固态tin沉积在模具表面上形成tin涂层，厚度可达3-10μm，副产品hcl气体则被吸收器排出。工艺参数的控制如下：

（1）氮氢比对tin的影响

一般情况下，氮氢体积比vn2/vh2<1/2时，随着n2的增加，镀膜设备，tin沉积速率增大，涂层显微硬度增大；当vn2/vh2≈1/2时，沉积速率和硬度达到值；当vn2/vh2>;1/2时，沉积速率和硬度逐渐下降。当vn2/vh2≈1/2时，所形成的tin涂层均匀致密，晶粒细小，硬度，涂层成分接近于化学当量的tin，而且与基体的结合牢固。因此，光学真空镀膜设备，vn2/vh2要控制在1/2左右。

溅射是物理气相沉积技术的另一种方式，有人要问了溅射工艺是怎么实现的呢？

溅射的过程是由离子轰击靶材表面，使靶材材料被轰击出来的技术。整个过程是在真空腔体中完成的。溅射开始时将气充入真空腔体中形成低压气氛围，再通过使用高电压，产生辉光放电，加速离子到靶材表面。离子将靶材材料从表面轰击（溅射）出来，在靶材前面的被涂层工件上沉积下来，这整个过程就好像是在打台球。