




同时,人们把另一类气相沉积,即通过高温加热金属或金属化合物蒸发成气相,或者通过电子、等离子体、光子等荷能粒子的能量把金属或化合物靶溅射出相应的原子、离子、分子(气态),台湾镀膜设备,在固体表面上沉积成固相膜,其中不涉及到物质的化学反应(分解或化合),称为物理气相沉积pvd)。
随着气相沉积技术的发展和应用,上述两类型气相沉积各自都有新的技术内容,两者相互交叉,你中有我,我中有你,镀膜设备厂家,致使难以严格分清是化学的还是物理的。
物理气相沉积涂层设备,该设备包括耐高压真空炉腔、转炉架、真空系统、阴极电弧系统、控制系统、高温轴承等,镀膜设备厂,同时采用开发的---的真空磁控阴极电弧技术,将具有硬度、---结合力、均匀一致的纳微米超硬薄膜运用于刀具、各类模具以及机械零部件表面,寿命提---到3-10倍以上。
研究制备的各类pvd涂层包括高硅涂层、高铝涂层(氮铝化钛)、cr-al涂层(alcrn)、ticn(氮碳化钛)涂层、tin(氮化钛)涂层、类金刚石(dlc)涂层等。涂层具有光滑、致密、硬度高、耐高温、抗磨损、防氧化等特点,能够进行批量和工业化生产应用。
金属钯及其合金具有很强的氢气吸附能力和特殊的选择渗透能力, 是理想的氢气储存和净化材料 。目前, 通常使用整体钯合金或镀钯等方法制造氢净化设备。近年来 ,有研究者尝试采用化学气相沉积法制备钯的薄膜或薄层材料 , 他们选用分解温度很低的金属有机化合物作为沉积钯的源物质, 他们是:---[β-酮] pd(ⅱ)、pd(η3 -c 3 h 5 )(η 5-c 5 h 5 )和 pd(η3-c 3 h 5 )(cf 3 cochcocf 3 )等。采用化学气相沉积法可以制备高纯度的钯薄膜 。
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