工艺特点
（1）广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。
（2）在产量方面，真空镀膜设备，从单件到大批量皆可。
（3）有优势，沉积温度低，薄膜成份易控，膜厚与淀积时间成正比，均匀性，重复性好，台阶覆盖性优良。
（4）工具涂层的生产效率不如pvd，具体取决于特定技术要求和辅助工艺。
4、适用材料
化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的一种技术，---是对工具涂层更是这样。
2080年代早期随着等离子体辅助pvd工艺的显露，cvd在工具方面的应用衰落了。但由于这种工艺具有---的渗入特性，其在cvi、ale等领域的工艺中有着---的应用前景，主要用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料。
采用化学气相沉积处理时，应注意以下问题：
（1）要考虑模具锐角部分的凸起变形
由于涂层与基体的线胀系数不同，模具棱角处容易产生应力集中，基材会被挤出形成凸起。可以采取的解决方法是：将锐角处加工成圆弧状，或是估计凸起变形量的大小，预先加工成锥形。
（2）cvd沉积温度高而带来的尺寸和形状变形
其变形程度取决于所选用的材料、形状、沉积温度、涂层厚度以及预备热处理等。
在cvd处理过程中，尺寸变形小的材料是硬质合金及含cr高的不锈钢系合金；冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢（cr12mov）、硬质合金等，其中快冷淬透钢，由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形，镀膜设备，所以不宜进行cvd处理；而高速钢是热处理膨胀较大的钢种，纳米镀膜设备，使用时必须充分估计其膨胀变形量。
多弧离子pvd镀膜设备
腔体结构： 立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统
材质用料： 腔体采用sus304不锈钢材质
离子弧源： 依据设备大小不同配备多套弧电源系统
偏压电源： 配备大功率单级脉冲偏压电源
多弧靶材： 标配多套钛靶或不锈钢靶材
转动系统： 变频调速，公自转结合，可采用上传动或下传动方式
真空系统（装饰镀膜设备decorative coating）：扩散泵（可选分子泵）+罗茨泵+机械泵+维持泵+深冷系统（可选）
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