pvd技术出现于，橡胶真空镀膜设备，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了---制造业的高度重视，人们在开发、高---性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。
与cvd工艺相比，pvd工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；pvd工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。
蒸镀中关键的两个参数是真空度（≤10-3pa）和相对蒸发源的基片距离（10~50cm）。蒸镀过程中，膜层粒子与真空室中的气体的碰撞是应该避免的，因此，相对蒸发源的基片距离应大于工作状态下真空室内气体分子的平均自由程。
溅射镀膜过程为：气体放电***等离子体***带电离子***电场作用***离子加速***高能离子***撞击靶材***溅射***发射靶材原子***飞向基板***形成沉积***获得薄膜。
离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，手机真空镀膜设备，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。
全sus304不锈钢机身，隐藏式双层冷却水套设计
合理配备多套全新研制的离子弧源，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性
采用多路进气系统，新北真空镀膜设备，---控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。
装载大功率脉冲偏压电源，---提高电粒子能量，从而获得的膜层结合力和光洁度
采用---工艺制造，精益---，通过欧盟ce和iso管理体系；
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