拉奇纳米镀膜-金属配件真空镀膜设备-真空镀膜设备

溅射是物理气相沉积技术的另一种方式，有人要问了溅射工艺是怎么实现的呢？

溅射的过程是由离子轰击靶材表面，使靶材材料被轰击出来的技术。整个过程是在真空腔体中完成的。溅射开始时将气充入真空腔体中形成低压气氛围，再通过使用高电压，产生辉光放电，加速离子到靶材表面。离子将靶材材料从表面轰击（溅射）出来，在靶材前面的被涂层工件上沉积下来，塑料真空镀膜设备，这整个过程就好像是在打台球。

cvd法具有如下特点：可在---或低于---压下进行沉积金属、合金、陶瓷和化合物涂层，能在形状复杂的基体上或颗粒材料上沉积涂层。涂层的化学成分和结构较易准确控制，也可制备具有成分梯度的涂层。

涂层与基体的结合力高，设备简单操作方便，金属配件真空镀膜设备，但它的处理温度一般为900-1200℃，硅胶真空镀膜设备，工件被加热到如此高的温度会产生以下问题：

（1）工件易变形，真空镀膜设备，心部组织恶化，性能下降。

（2）有脱碳现象，晶粒长大，残留奥氏体增多。

（3）形成ε相和复合碳化物。

（4）处理后的母材必须进行淬火和回火。

（5）不适用于低熔点的金属材料。