镀膜设备生产-镀膜设备-东莞拉奇纳米

pcvd工艺参数包括微观参数和宏观参数。微观参数如电子能量、等离子体密度及分布函数、反应气体的离解度等。宏观参数对于真空系统有，真空镀膜设备价格，气体种类、配比、流量、压强、抽速等；对于基体来说有，沉积温度、相对位置、导电状态等；对于等离子体有，放电种类、频率、电极结构、输进功率、电流密度、离子温度等。以上这些参数都是相互联系、相互影响的。

cvd 制备铱高温涂层人们之所以对作涂层材料感兴趣是由于这类金属优良的性能 。铱具有较强的能力和较高的熔点而受到重视， 是一种较理想的高温涂层材料 。

20 世纪 60 年代以来，真空镀膜设备公司， 航空航天技术飞速发展，一些高熔点材料(如石墨碳和钨钼钽铌等难熔金属)被大量使用，镀膜设备，但这些材料的一个共同的致命缺点是能力差。

60 年代美国材料实验室(afml)对石墨碳的铱保护涂层进行过大量的研究， 采用了多种成型方法制备铱涂层 ，其中包括化学气相沉积法 。虽然没有制备出令人满意的厚铱涂层， 但仍认为 cvd 是一种非常有希望且值得进一步研究的方法。