




纳米镀膜设备
pcvd工艺具有广泛的用途。
(1)超硬膜的应用(tin、tic、ticn、(tial)n、c-bn等)pcvd法宜于在外形复杂、面积大的工件上获得超硬膜,沉积速率可达4~10μm/h,硬度大于2000hv,纳米镀膜设备,绕镀性好,工件不需旋转就可得到均匀的镀层。大量应用于切削刀具、磨具和耐磨零件。
(2)半导体元件上尽缘膜的形成过往半导体元件上的尽缘膜大多用sio2,现在用sin4+h2用pcvd法来形成si3n4,si3n4的尽缘性、性、耐酸性、耐碱性,比sio2强,从电性能及其掺杂效率来讲都是的,---是当前的高速元件gaas尽缘膜的形成,高温处理是不可能的,只能在低温下用等离子法进行沉积。
多弧离子pvd镀膜设备
腔体结构: 立式前开门,玻璃纳米镀膜设备,卧式前开门,后置真空获得系统
材质用料: 腔体采用sus304不锈钢材质
离子弧源: 依据设备大小不同配备多套弧电源系统
偏压电源: 配备大功率单级脉冲偏压电源
多弧靶材: 标配多套钛靶或不锈钢靶材
转动系统: 变频调速,五金配件纳米镀膜设备,公自转结合,可采用上传动或下传动方式
真空系统(装饰镀膜设备decorative coating):扩散泵(可选分子泵)+罗茨泵+机械泵+维持泵+深冷系统(可选)
物理气相沉积涂层设备,该设备包括耐高压真空炉腔、转炉架、真空系统、阴极电弧系统、控制系统、高温轴承等,同时采用开发的---的真空磁控阴极电弧技术,将具有硬度、---结合力、均匀一致的纳微米超硬薄膜运用于刀具、各类模具以及机械零部件表面,寿命提---到3-10倍以上。
研究制备的各类pvd涂层包括高硅涂层、高铝涂层(氮铝化钛)、cr-al涂层(alcrn)、ticn(氮碳化钛)涂层、tin(氮化钛)涂层、类金刚石(dlc)涂层等。涂层具有光滑、致密、硬度高、耐高温、抗磨损、防氧化等特点,能够进行批量和工业化生产应用。
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关键词: 纳米镀膜加工厂 - 真空镀膜设备 - 气相沉积设备 - 有机高分子镀膜设备 - 冷凝设备