有时将此方法用作预涂层，目的是提高基材的耐久性，减少摩擦并---热性能-这意味着人们可以在同一涂层中结合pvd和cvd层等沉积方法。
在数学建模和数值模拟方面也有大量研究有助于---此过程，塑料真空镀膜设备，这可能是优于其他过程的优势。这些研究对------的特性有很大的影响，真空镀膜设备，从而导致未来的成本降低，以及对薄膜机械性能的---。
由于磁控溅射技术的发展将集中在未来对这些特定反应器的改进上，因此这项工作已成为主要重点。
射频等离子体增强化学气相沉积（rf-pcvd）
在低压容器的两极上加高频电压则产生射频放电形成等离子体，射频电源通常采用电容耦合或电感耦合方式，其中又可分为电极式和无电极式结构，电极式一般采用平板式或热管式结构，优点是可容纳较多工件，但这种装置中的分解率远低于1%，真空镀膜设备，即等离子体的内能不高。电极式装置设在反应容器外时，主要为感应线圈，如图5，也叫无极环形放电，射频频率为13.56mhz。
金属箔(尤其是铜箔)上的化学气相沉积(cvd)是目前制备大面积高石墨烯薄膜具发展前景的方法生长在铜箔上的石墨烯薄膜中为什么会出现“adlayers”，发现薄膜中的碳杂质直接导致adlayers的成核和生长。通过使用飞行时间二次离子质谱和燃烧分析，金属真空镀膜设备，发现商业铜箔有‘过量的碳’，尤其是在表面附近，---约为300纳米。
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