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射频等离子体增强化学气相沉积（rf-pcvd）

在低压容器的两极上加高频电压则产生射频放电形成等离子体，真空镀膜设备价格，射频电源通常采用电容耦合或电感耦合方式，其中又可分为电极式和无电极式结构，电极式一般采用平板式或热管式结构，优点是可容纳较多工件，但这种装置中的分解率远低于1%，即等离子体的内能不高。电极式装置设在反应容器外时，真空光学镀膜设备，主要为感应线圈，如图5，也叫无极环形放电，射频频率为13.56mhz。

化学气相沉积工艺是这样一种沉积工艺，被沉积物体和沉积元素（单元或多元）蒸发化合物置于反应室，当高温气流进入反应室时，可控制的反应室可使其发生一种合适的化学反应，导致被沉积物体的表面形成一种膜层，手机镀膜设备多少钱，同时将反应产物及多余物从反应室蒸发排除。

化学气相沉积（简称cvd），镀膜设备，也即化学气相镀或热化学镀或热解镀或燃气镀，属于一种薄膜技术。常见的化学气相沉积工艺包括常压化学气相沉积（npcvd），低压化学气相沉积（lpcvd），---压下化学气相沉积（apcvd）。