真空镀膜设备-东莞拉奇纳米镀膜-金属真空镀膜设备

气相沉积主要分为两大类：

化学气相沉积(，简称cvd)；

物理气相沉积(，简称pvd)。

，人们利用易挥发的液体tici稍加热获得tici气体和nh气体一起导入高温反应室，让这些反应气体分解，显示屏真空镀膜设备，再在高温固体表面上进行遵循热力学原理的化学反应，生成tin和hci，hci被抽走，tin沉积在固体表面上成硬质固相薄膜。人们把这种通过含有构成薄膜元素的挥发性化合物与气态物质，在固体表面上进行化学反应，且生成非挥发性固态沉积物的过程，称为化学气相沉积(，cvd)。

等离子体化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体（非平衡等离子体）作能量源，工件置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加---体）使工件升温到预定的温度，然后通进适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固态薄膜。它包括了化学气相沉积的一般技术，又有辉光放电的强化作用。