拉奇纳米-手机纳米真空镀膜-台湾真空镀膜

高真空离子镀适用范围比较广，如abs料、abs+pc料、pc料的商品。传统水电镀技术流程杂乱、环境污染大、设备成本高、对作业人员身体伤害大，电镀出来产品外观损坏大，不锈钢真空镀膜，产品稳定性差。而高真空离子镀它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，也就是我们俗称的真空镀膜。

镀膜制造需要部分耗材1.sio2颗粒或环状(***300****230*t7.5mm，)需要根据机台配置选用。2.tio2颗粒。3.晶振片filtex 6mhz或inficon6mhz。4.监控片bk7 φ142*80*1.8mm，需要根据机台配置选用。5.铜坩埚，需要根据机台配置选用。6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm。7.电子枪灯丝，需要根据机台配置选用。8.离子源，需要根据机台配置选用耗材。