




pvd(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于pvd技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年真空离子镀技术的发展是快的,多功能化学气相沉积,它已经成为了当代进的表面处理方法之一。我们通常所说的pvd镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的pvd镀膜机,金属化学气相沉积,指的也就是真空离子镀膜机。
真空镀膜加工都使用那些工艺
喷砂和阳极氧化
一般的阳极氧化喷砂是针对的铝或者铝合金的较多。砂分为粗砂和细砂,细砂的成本相对要高一点点,常平化学气相沉积,一般金属表面瑕疵较多的会选择喷粗砂去掩盖一部分,但是喷砂不能完全掩盖一些---的瑕疵。细砂一般针对金属表面比较平整很小瑕疵或者没有瑕疵的。喷砂以后做氧化能给产品带来---的---。像我们常用的手机壳表面很多都是喷砂之后氧化的
真空镀膜加工是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。

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