低压化学气相沉积-拉奇纳米镀膜设备-坪山化学气相沉积

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    2022-6-27

唐锦仪
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请问什么是pvd?

pvd是英文physical vapor deition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。


请问pvd镀膜的具体原理是什么?

离子镀膜(pvd镀膜)技术,其原理是在真空条件下,坪山化学气相沉积,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。





       电阻蒸发源蒸镀法:

       电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属,做成适当形状的蒸发源,其上装入待蒸发材料,让电流通过,对蒸发材料进行直接加热蒸发,超声波化学气相沉积,或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。


       优点:

      利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用---,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,cvd化学气相沉积,尤其适用于对膜层要求不太高的大批量的生产中。





       高频感应蒸发源蒸镀法:

       高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈中央,低压化学气相沉积,使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生---的涡流损失和磁滞损失(对铁磁体),使蒸发材料升温,直至气化蒸发。


       优点:

      1、蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右。

      2、蒸发源的温度均匀稳定不易产生飞溅现象。

      3、蒸发材料是金属时,蒸发材料可产生热量。

      4、蒸发源一次装料,无需送料机构,温度容易控制,操作简单。






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