等离子化学气相沉积厂-南头等离子化学气相沉积-拉奇纳米镀膜

真空镀膜过程其工艺之多非常复杂，真空镀膜加工原理有不同可分很多种类，等离子化学气相沉积，对于不同原理的真空镀膜加工，影响均匀性的因素也不尽相同。

真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要，直接影响到电镀的产品品质。真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积技术和化学气相堆积技术。

真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相沉积等。真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。