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真空镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。

相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜。真空条件下制备薄膜，cvd化学气相沉积，环境清洁，膜不易受到污染，因此，可获得致密性好、纯度高、膜层均匀的膜。

镀膜加工的优点

简单清洁，cvd化学气相沉积加工报价，不吸尘。

使塑料外表有导电性，---美观，cvd化学气相沉积公司，外表光滑，金属光泽彩色化，---提高装饰性。

改进外表硬度，cvd化学气相沉积多少钱，原塑胶外表比金属软而易受损害，经过真空镀膜技术，硬度及耐磨性---添加。

能够提高耐候性，削减吸水率，镀膜次数愈多，孔愈少，吸水率下降，制品不易变形，提高耐热性。

真空镀膜技术之物理气相沉积技术，它利用某种物理过程，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有障碍。镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。