溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。对于不同的溅射材料和基片，参数需要实验确定，是各不相同的，金属化学气相沉积技术，镀膜设备的好坏主要在于能否控温，能否---好的真空度，能否---好的真空腔清洁度。mbe分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，金属化学气相沉积，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。
减反射镀膜意义重大，大幅提升用户体验:现阶段几乎所有手机、平板电脑屏幕在阳光下的可视效果都非常差，主要是表面盖板玻璃(主要成分为sio2和al2o3)折射率较高，超过1.5，斗门金属化学气相沉积，即使是好的面板反射率仍有5%。想要提高可见度，有两种方法，一是提高屏幕亮度，二是降低屏幕反射;但前者会增加耗电量，进一步缩短本已不长的智能终端待机时间。所以在改变玻璃表面采用减反射技术意义重大，可降低电子产品在室内外的反射光，减少电量消耗，大幅提升用户体验。
手机镀膜机的工艺流程，塑料薄膜的镀铝工艺一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。bopet、bopa薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。而bopp、和cpp、pe等非极性塑料薄膜，金属化学气相沉积厂家，在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层，使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有---的粘合性。蒸镀时，将卷筒薄膜置放于真空室内，关闭真空室抽真空。
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