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手机真空镀膜设备有哪些特点?蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，怀集有机高分子镀膜设备，经历成膜过程，形成薄膜。

真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

真空镀膜机如何选型选用真空泵时，需要注意下列事项：

真空泵的工作压强应该满足真空设备的---真空及工作压强要求。

如:真空镀膜机要求1x10-5mmhg的真空度，有机高分子镀膜设备厂在哪， 选用的真空泵的真空度至少要5x10-6mmhg.真空镀膜机对于真空度的---要求和工作压力强度要求越来越大，对真空泵的抽真空能力要求就越高，通常选择泵的真空度要高于真空设备真空度半个到一个数量级。