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       真空镀膜机镀件怎样除气：

       真空状态是支持真空镀膜机运作的环境，---是需要高真空度的设备，通常我们需要达到高真空度，抽气系统的作用是功不可没的。

　　但除了真空镀膜机抽气系统外，在真空镀膜设备运行的过程中，还有一点就是产品镀件的除气也很重要。

　　有些产品镀件它本身内部存在着很多的气体、水分等，这些物质都会随着设备加热时被排放到真空室中，降低了真空度，更甚者，有些气体带有毒性成分，直接损害到真空室内部机械结构，造成设备不能正常运作。

　　另外，正在镀膜过程中，由于工件内气体加热膨胀，容易使已经镀上的膜层裂开，当然这个情况出现的机率视工件本身物理性质有关，像塑料等容易膨胀的，气相沉积设备哪里好，机率就比较高，像金属等硬质的，机率就比较低，但也不能忽视，因此工件的除气是非常---的。

　　通常我们使用的产品镀件除气方法是烘烤，气相沉积设备，通过加热把工件内的气体、水分排出，在镀膜前，抽气的同时，对工件进行加热，当工件内水分和气体由于加热而放出后，随着真空室内的气体一起被真空泵抽出。

　　针对不同的工件采取不一样的除气措施，有效控制产品镀件内部气体与水分排放，提高镀膜的稳定性和均匀性。

真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜，详细包含许多品种，气相沉积设备工厂在哪，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，气相沉积设备公司，mbe分子束外延，pld激光溅射堆积等许多种。首要思路是分成蒸腾和溅射两种。需求镀膜的被称为基片，镀的资料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

　薄膜均匀性概念

　厚度上的均匀性，也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看(也便是1/10波长作为单位，约为100a)，真空镀膜的均匀性已经相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也便是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。 但是如果是指原子层标准上的均匀度，也便是说要实现10a甚至1a的外表平整，详细操控因素下面会依据不同镀膜给出详细解释。