气相沉积厂-新北气相沉积-东莞拉奇纳米

真空镀膜是真空应用领域的一个突破性技术，利用物理或者化学方法并吸收一系列新技术而成的工艺，新北气相沉积，目的就是为了在实际生产中为产品创造薄膜保护层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。

为什么需要进行真空镀膜呢？这项工艺已经成为了电子元器件制造中的一项不可或缺的技术，主要是为了使产品表---有耐磨损耐高温，耐腐蚀等优于产品本身的性能，从而提高产品的，延长加工产品的使用寿命，不仅如此，还可以节约能源，获得更为---的技术经济效益。

实际应用中，我们往往会根据产品的性质来决定选用哪种真空镀膜工艺。磁控溅射镀主要用于金属产品，蒸发镀主要用于塑胶产品，光学离子镀主要用于璃玻产品。真空电镀为磁控溅射镀，以电镀不锈钢产品材质为主，可以电镀金色、玫瑰金色、黑色、色、蓝色等颜色，稳定，品质保障。

镀膜公司从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2pa，真空镀膜对于蒸发源与被镀制品和薄膜要求---的场合，则要求压力---（ 10-5pa ）。 镀层厚度0.04-0.1um，太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。

从而使固体表---有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、、东莞电子镀膜防辐射、导电、导 磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的性能，达到提高产品、延长产品寿命、节约能源和获得---技术经济效益的作用。