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镀膜方式也分多种工艺,常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强,膜层的纯度高,可以同事溅射多种不同成分的材料,离子蒸发镀膜可以提高膜层的致密性和结合力及均匀性。
真空镀膜机镀膜原理一般是根据实际产品工艺需求定制。

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真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片,气相沉积设备哪有订,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发。
其组成包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵以及成膜控制系统等等。

真空镀膜机的原理
真空主体——真空室根据加工产品的要求差异,大小也不一。目前应用的真空室有直径1.3m、0.9m、1.5m、1.8m等。燃烧室由不锈钢制成,不需要生锈、坚固等。真空室的所有部分都设有连接阀,用于连接各种泵。
辅助抽气系统:排气系统是真空镀膜机的重要组成部分,主要由机械泵、增压泵(主要引入罗茨泵)和油扩散泵组成。排气系统由“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。机械泵首先将真空室抽入小于2.0 * 10-2 pa 的低真空状态,lh320气相沉积设备,为扩散泵的后续真空抽吸提供了前提,然后在扩散泵的真空室抽吸时,机械泵与油扩散泵串联,完成抽吸作用。
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