




真空镀膜过程其工艺之多非常复杂,真空镀膜加工原理有不同可分很多种类,对于不同原理的真空镀膜加工,影响均匀性的因素也不尽相同。
真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要,直接影响到电镀的产品品质。真空镀膜技术一般分为两大类,化学气相沉积技术,即物理气相堆积技术和化学气相堆积技术。
镀膜的保护作用
1、抗酸碱腐蚀,能解决受酸性或碱性物质腐蚀的问题。
2、低水、气体渗透性、具高屏障效果,化学气相沉积公司,能达到防潮、防水、防锈及减缓风化等作用。
在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应,以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
真空镀膜就是于真空室内,金属化学气相沉积,采用一定方法使材料凝聚成膜的工艺。在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,福田化学气相沉积,使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。 广义的真空镀膜还包括在属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。
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