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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、mbe分子束外延镀膜机和pld激光溅射沉积镀膜机等很多种。真空镀膜机对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物,都可以气相沉积各种金属膜和介质膜,不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
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