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影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

靶基距、气压的影响

磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，uh850派瑞林镀膜设备公司，这些因素只能在小面积范围内起作用。

如何提高真空镀膜机抽速？

1.如果是刚使用真空镀膜机，可以边抽边加温(一般是200℃左右)1-2小时，除去水汽及附着物。

2.真空镀膜机生产时产品一定要用烤箱完全干燥后才进炉镀膜。

3.如果真空镀膜机使用了很长时间，uh850派瑞林镀膜设备制造商，发现抽真空变慢，uh850派瑞林镀膜设备，需要更换机台防着板，然后加温烘烤。

4.如果是忽然变很慢，请用设备检漏，重点部位在：坩埚下、热电偶下、旋转机械部上、泵接触部位。

5.真空镀膜机机械泵加大或者增加冷媒。

6.定期保养和更换机械泵 罗茨泵和扩散泵油。

7.定期给炉壁退镀表面膜层减少放气量。