




真空电镀:真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气,气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久,派瑞林真空镀膜,耐磨度好,但是由于其对环境要求较严格而且工艺相对比较复杂成本方面比一般电镀要高。而水电镀:水电镀一般是指挂镀。
真空镀膜加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在hv300-600,高的甚至可达到hv700以上,而电镀镍的硬度仅为 hv160-180,显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后,金属派瑞林真空镀膜,其硬度还可以提高,塑料派瑞林真空镀膜,可达hv900以上。

真空镀膜涂层附着力的影响因素:
首先一大因素就是材质,有些材质不适合做真空镀膜涂层,例如锌合金、铝和裸铜等,直接做真空镀膜会出现起泡、掉摸等附着力差的现象。
其次附着力受产品表面的洁净度影响,如果产品表面的脏污、杂质或者披锋等没有清理干净,真空镀膜涂层就会附着在这些杂质上,一旦杂质掉落,涂层也随之剥落,我们称之为假附着。
第三个影响因素就是基材的耐腐蚀性能,真空涂层虽细腻致密,显示屏派瑞林真空镀膜,但是基材缺陷并不能完全覆盖,基材腐蚀一般从缺陷处开始,基材一旦被腐蚀,膜层就成了中空状态或者直接随之剥落;第四个影响因素就是工艺的优良程度,沉积的温度、偏压等是否---,沉积的膜层应力是否过大等等;产品在非常特殊的环境下使用,而这种环境又超出真空镀膜涂层能承受的范围。
pvd(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于pvd技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年真空离子镀技术的发展是快的,它已经成为了当代进的表面处理方法之一。我们通常所说的pvd镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的pvd镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。
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