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真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积（pvd）技能和化学气相堆积（cvd）技能。

物理气相堆积技能具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

化学气相堆积技能是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供应基体，凭借气相作用或基体外表上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的办法，汽车parylene镀膜，主要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相堆积等。

真空镀膜加工技术的研究与应用，不仅推动了手机制造业的发展，也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽，以对其使用性能进行优化，parylene镀膜，保护人类健康，保护环境。

　　任何固体材料在---环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的。