




20世纪70年代,在物体外表上镀膜的办法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电,塑料派瑞林,使电解液电解,被电解的离子镀到作为另一个电极的基体外表上,因而这种镀膜的条件,基体必须是电的良导体,并且薄膜厚度也难以控制。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能,金属派瑞林,一般称为干式镀膜技能。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝结并堆积的办法,称为真空镀膜。
真空镀膜加工是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,新北派瑞林,真空镀铝、真空镀铬等。
光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像,涂镀一层或多层透明介质膜,手机派瑞林,称为增透膜或减反射膜。

真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相堆积(pvd)技术和化学气相堆积(cvd)技术。
物理气相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同,物理气相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下,因而可作为z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。
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