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磁控溅射镀膜机

各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也---扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，h1050派瑞林镀膜设备，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。

蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。

真空镀膜机的原理

真空主体——真空室根据加工产品的要求差异，大小也不一。目前应用的真空室有直径1.3m、0.9m、1.5m、1.8m等。燃烧室由不锈钢制成，不需要生锈、坚固等。真空室的所有部分都设有连接阀，h1050派瑞林镀膜设备厂在哪，用于连接各种泵。

辅助抽气系统：排气系统是真空镀膜机的重要组成部分，主要由机械泵、增压泵(主要引入罗茨泵)和油扩散泵组成。排气系统由“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。机械泵首先将真空室抽入小于2.0 * 10-2 pa 的低真空状态，为扩散泵的后续真空抽吸提供了前提，然后在扩散泵的真空室抽吸时，机械泵与油扩散泵串联，完成抽吸作用。