中堂聚对二----拉奇纳米镀膜设备-聚对二---加工

真空镀膜的方法材料：

(2)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

光学镀膜方法材料

(1)---镁：无色四方晶系粉末，纯度高，聚对二---加工，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

(2)二氧化硅：无色透明晶体，聚对二---加工厂，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，中堂聚对二---，用其制备高si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

请问什么是pvd镀膜? 什么是pvd镀膜机?

pvd(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于pvd技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年真空离子镀技术的发展是快的，它已经成为了当代进的表面处理方法之一。我们通常所说的pvd镀膜，指的就是真空离子镀膜;通常所说的pvd镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。