




真空镀膜的方法材料:
(2)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。
光学镀膜方法材料
(1)---镁:无色四方晶系粉末,汽车配件派瑞林,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,不出崩点。
(2)二氧化硅:无色透明晶体,橡胶派瑞林,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
真空镀膜加工的基本技能要求
9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细,均按gb/t11164-1999中的4.4.6
10、其他注意事项
1)环境温度:10-30oc
高频感应蒸发源蒸镀法:
高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈中央,使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生---的涡流损失和磁滞损失(对铁磁体),使蒸发材料升温,五金派瑞林,直至气化蒸发。
优点:
1、蒸发速率大,派瑞林,可比电阻蒸发源大10倍左右。
2、蒸发源的温度均匀稳定不易产生飞溅现象。
3、蒸发材料是金属时,蒸发材料可产生热量。
4、蒸发源一次装料,无需送料机构,温度容易控制,操作简单。
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