真空镀膜技能一般分为两大类，金属配件parylene，即物理气相堆积（pvd）技能和化学气相堆积（cvd）技能。
物理气相堆积技能具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。
化学气相堆积技能是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供应基体，凭借气相作用或基体外表上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的办法，主要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有cvd和pvd两者特点的等离子化学气相堆积等。
真空镀膜加工的基本技能要求
5、离子镀堆积源的规划应尽可能提高镀膜过程中的离化率，五金配件parylene，提高镀膜资料的利用率，饰品parylene，合理匹配堆积源的功率，合理布置堆积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热设备，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的规划应使工件膜层均匀。
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电设备，维持作业稳定。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，新北parylene，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
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