真空镀膜的方法材料：
(2)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。
(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。
光学镀膜方法材料
(1)---镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。
(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高si02镀膜，蒸发状态好，真空微米镀膜工厂，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
手机壳真空镀膜加工技术，就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过---机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以较大地防止因电磁波辐射而---机使用者造成的危害。
按镀膜机操作规程对真空室进行抽真空。当真空度达到3710pa-以后，依次对舟预熔，去除膜料中的气体。此时，应注意用挡板挡住膜料，以---预熔中基片不被镀上。
真空镀膜加工都使用那些工艺
喷砂和阳极氧化
一般的阳极氧化喷砂是针对的铝或者铝合金的较多。砂分为粗砂和细砂，横沥真空微米镀膜，细砂的成本相对要高一点点，一般金属表面瑕疵较多的会选择喷粗砂去掩盖一部分，但是喷砂不能完全掩盖一些---的瑕疵。细砂一般针对金属表面比较平整很小瑕疵或者没有瑕疵的。喷砂以后做氧化能给产品带来---的---。像我们常用的手机壳表面很多都是喷砂之后氧化的
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