




20世纪70年代,在物体外表上镀膜的办法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电,使电解液电解,电子真空微米镀膜,被电解的离子镀到作为另一个电极的基体外表上,因而这种镀膜的条件,基体必须是电的良导体,硅胶真空微米镀膜,并且薄膜厚度也难以控制。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能,惠东真空微米镀膜,一般称为干式镀膜技能。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝结并堆积的办法,称为真空镀膜。
真空镀膜加工的常用办法
(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3pa,然后将阴极接上2000v的直流电源,便激发辉光放电,带正电的离子碰击阴极,使其射出原子,溅射出的原子经过惰性气氛堆积到基体上形成膜。
镀膜常用在相机镜头、近视、、老花镜等纠正眼镜上运用。
镀膜是在外表镀上非常薄的通明薄膜。目的是希望削减光的反射,添加透光率,抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同色彩的镀膜,也使的成像色彩平衡的不同。此外,镀膜尚可推迟镜片老化、变色的时间。
真空镀膜涂层附着力的影响因素:
首先一大因素就是材质,有些材质不适合做真空镀膜涂层,例如锌合金、铝和裸铜等,直接做真空镀膜会出现起泡、掉摸等附着力差的现象。
其次附着力受产品表面的洁净度影响,如果产品表面的脏污、杂质或者披锋等没有清理干净,真空镀膜涂层就会附着在这些杂质上,一旦杂质掉落,真空微米镀膜,涂层也随之剥落,我们称之为假附着。
第三个影响因素就是基材的耐腐蚀性能,真空涂层虽细腻致密,但是基材缺陷并不能完全覆盖,基材腐蚀一般从缺陷处开始,基材一旦被腐蚀,膜层就成了中空状态或者直接随之剥落;第四个影响因素就是工艺的优良程度,沉积的温度、偏压等是否---,沉积的膜层应力是否过大等等;产品在非常特殊的环境下使用,而这种环境又超出真空镀膜涂层能承受的范围。
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