派瑞林真空镀膜设备-东莞拉奇纳米镀膜

直流磁控溅射：一般用于导电型（如金属）靶材的溅射。

射频磁控溅射：一般用于非导电型（如陶瓷化合物）靶材的溅射。射频电源在使用时，有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷，防止靶。

平衡磁控溅射：在阴极靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈，派瑞林真空镀膜设备哪里实惠，在靶材表面形成与电场方向垂直的磁场。但存在有效镀膜区受限、膜基结合强度较差等缺点。

非平衡磁控溅射：将阴极靶面的等离子体引到溅射靶前更远的范围内，派瑞林真空镀膜设备哪有订，使基体沉浸在等离子体中，派瑞林真空镀膜设备，---了膜层的。

真空蒸发镀膜机：通过加热材料使其蒸发并沉积在基板表面形成薄膜。这类设备操作简单、制备工艺成熟，广泛应用于金属、二氧化硅、氧化锌和有机聚合物等材料的薄膜制备。

溅射镀膜机：

直流溅射镀膜机：利用直流电场使气体电离并轰击靶材，使靶材原子或分子溅射到基板上形成薄膜。

射频溅射镀膜机：利用射频电源产生高频电场，使气体电离并轰击靶材进行溅射镀膜。

磁控溅射镀膜机：采用磁场控制电弧溅射金属材料使其沉积在衬底表面上，形成薄膜。这种镀膜机具有工艺参数易调节、薄膜均匀度好等特点，并且可以应用于多种金属和非金属材料的薄膜制备。