手机纳米镀膜设备-纳米镀膜设备-东莞拉奇纳米

同时，人们把另一类气相沉积，即通过高温加热金属或金属化合物蒸发成气相，或者通过电子、等离子体、光子等荷能粒子的能量把金属或化合物靶溅射出相应的原子、离子、分子(气态)，在固体表面上沉积成固相膜，其中不涉及到物质的化学反应(分解或化合)，称为物理气相沉积pvd)。

随着气相沉积技术的发展和应用，上述两类型气相沉积各自都有新的技术内容，两者相互交叉，你中有我，橡胶纳米镀膜设备，我中有你，致使难以严格分清是化学的还是物理的。

（1）化学气相沉积（cvd）反应温度一般在900~1200℃，中温cvd例如mocvd（金属有机化合物化学气相沉积），反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量，还可把反应温度降低。

“辅助”cvd的工艺较多，主要有：

电子辅助cvd（eacvd）（也称为电子束辅助cvd，电子增强cvd，或电子束---cvd），涂层的形成在电子作用下得到改进。

激光辅助cvd（lacvd)，手机纳米镀膜设备，也称为激光cvd或光子辅助cvd，涂层的形成在激光辐照作用下得到改进。

热丝cvd，也称为热cvd，金属配件纳米镀膜设备，一根热丝放在被镀物件附近进行沉积。

金属有机化合物cvd（mocvd），是在一种有机金属化合物气氛（这种气氛在室温时是稳定的，但在高温下分解）中进行沉积。