




(1)化学气相沉积(cvd)反应温度一般在900~1200℃,中温cvd例如mocvd(金属有机化合物化学气相沉积),反应温度在500~800℃。若通过气相反应的能量,还可把反应温度降低。
“辅助”cvd的工艺较多,主要有:
电子辅助cvd(eacvd)(也称为电子束辅助cvd,汽车真空镀膜设备,电子增强cvd,或电子束---cvd),涂层的形成在电子作用下得到改进。
激光辅助cvd(lacvd),也称为激光cvd或光子辅助cvd,台湾真空镀膜设备,涂层的形成在激光辐照作用下得到改进。
热丝cvd,橡胶真空镀膜设备,也称为热cvd,一根热丝放在被镀物件附近进行沉积。
金属有机化合物cvd(mocvd),是在一种有机金属化合物气氛(这种气氛在室温时是稳定的,但在高温下分解)中进行沉积。

镀膜技能在刀具、模具等金属切削加工东西方面的运用。在生活中咱们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等,这些即是通过镀膜技能加工后的涂层东西。
(1)金黄色的是在刀具上涂镀了tin、zrn涂层。tin是一代运用广泛的硬质层资料。
(2)黑色的是在切削东西上涂了tic、crn涂层。
(3)钴铜色的是在刀具上镀涂了tialn涂层。
2080年代早期随着等离子体辅助pvd工艺的显露,cvd在工具方面的应用衰落了。但由于这种工艺具有---的渗入特性,其在cvi、ale等领域的工艺中有着---的应用前景,主要用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料。
金属有机化合物cvd(mocvd)工艺被广泛用于电子工业,例如生产ai和gaas膜,当用于生长单晶材料膜时,这种工艺称为金属有机气相外延(mdvpe)。
原子层外延(ale)cvd是一种cvd衍生方法,可以控制膜的成长,现在该工艺已用于生产电荧光膜。
真空镀膜设备
工艺特点
(1)广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。
(2)在产量方面,从单件到大批量皆可。
(3)有优势,沉积温度低,薄膜成份易控,膜厚与淀积时间成正比,均匀性,重复性好,台阶覆盖性优良。
(4)工具涂层的生产效率不如pvd,具体取决于特定技术要求和辅助工艺。
化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的种技术,---是对工具涂层更是这样。
镀膜机工艺在太阳能运用方面的运用当需求有用地运用太阳热能时,就要思考选用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所导致的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。
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