涂层技术
增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，玻璃真空镀膜设备，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效地控制，真空镀膜设备，使材料的离化率更高，薄膜性能优异。
过滤阴极弧：过滤阴极电弧(fca)配有的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%，并且可以过滤掉大颗粒，因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。
若将反应气体导入蒸发空间，便可在工件表面沉积金属化合物涂层，这就是反应性离子镀。由于采用等离子活化，工件只需在较低温度甚至在室温下进行镀膜，完全---零件的尺寸精度和表面粗糙度，因此，可以安排在工件淬火、回火后即后一道工序进行。如沉积tin或tic时，基体温度可以在150-600℃范围内选择，温度高时涂层的硬度高，与基体的结合力也高。基体温度可根据基体材料及其回火温度选择，如基体为高速钢，可选择560℃，橡胶真空镀膜设备，这样，对于经淬火、回火并加工到尺寸的模具加工，无需---基体硬度降低及变形问题。另外，离子镀的沉积速度较其他气相沉积方法快，得到10mm厚的tic或tin涂层，一般只需要几十分钟。
蒸镀中关键的两个参数是真空度（≤10-3pa）和相对蒸发源的基片距离（10~50cm）。蒸镀过程中，膜层粒子与真空室中的气体的碰撞是应该避免的，因此，相对蒸发源的基片距离应大于工作状态下真空室内气体分子的平均自由程。
溅射镀膜过程为：气体放电***等离子体***带电离子***电场作用***离子加速***高能离子***撞击靶材***溅射***发射靶材原子***飞向基板***形成沉积***获得薄膜。
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