新北纳米镀膜设备-拉奇纳米镀膜设备-金属纳米镀膜设备

物理气相沉积（pvd）工艺已经有100多年的历史了，等离子辅助pvd大约在80年前就申请了---。术语“物理气相沉积”仅在60年代出现。当时，需要通过发展众所周知的技术来发展真空镀膜工艺，例如溅射，真空，等离子体技术，磁场，金属纳米镀膜设备，气体化学，热蒸发，橡胶纳米镀膜设备，弓形和电源控制，如powell的书中详细描述的。在过去的30年中，等离子辅助pvd（papvd）被分为几种不同的电源技术，例如直流（dc）二极管，三极管，射频（rf），脉冲等离子体，新北纳米镀膜设备，离子束辅助涂层等。，该过程在基本理解上存在一些困难，因此引入了---的更改以提供好处，例如从涂层到基材的---附着力，结构控制以及低温下的材料沉积。

同时，人们把另一类气相沉积，即通过高温加热金属或金属化合物蒸发成气相，或者通过电子、等离子体、光子等荷能粒子的能量把金属或化合物靶溅射出相应的原子、离子、分子(气态)，在固体表面上沉积成固相膜，其中不涉及到物质的化学反应(分解或化合)，称为物理气相沉积pvd)。

随着气相沉积技术的发展和应用，上述两类型气相沉积各自都有新的技术内容，两者相互交叉，你中有我，我中有你，致使难以严格分清是化学的还是物理的。