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溅射镀膜

溅射镀膜，金属配件纳米镀膜设备，是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时，将工作室---真空，充入氢气作为工作气体，并保持其压力为0.13-1.33pa，以沉积物质作为靶（阴极）并加上数百至数千伏的负压，以工件为阳极，台湾纳米镀膜设备，两侧灯丝带负压（-30-100v）。加热灯丝至1700℃左右时，饰品纳米镀膜设备，灯丝发射出的电子使氢气发生辉光放电，产生出氢离子h+，h+被加速轰击靶材，使靶材迸发出原子或分子溅射到工件表面上，形成沉积层。

溅射法可用于沉积各种导电材料，包括高熔点金属及化合物。如果用tic作靶材，便可以在工件上直接沉积tic涂层。当然，汽车配件纳米镀膜设备，也可以用金属ti作靶，再导入反应气体，进行反应性溅射，溅射涂层均匀但沉积速度慢，不适于沉积105mm以上厚度的涂层。溅射可使基体温度升高到500-600℃，因此，只适用于在此温度下具有二次硬化的钢制模具加工。

pvd技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了---制造业的高度重视，人们在开发、高---性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。

与cvd工艺相比，pvd工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；pvd工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。