




化学气相沉积的特点
化学气相沉积工艺是,将加热的模具暴露在发生反应的混合气氛(真空度≤1pa)中,使气体与模具表面发生反应,在模具表面上生成一层薄的固相沉积物,如金属碳化物、氮化物、硼化物等。这里有两个关键因素:
一是作为初始混合气体气相与基体固相界面的作用,也就是说,各种初始气体之间在界面上的反应来产生沉积,或是通过气相的一个组分与基体表面之间的反应来产生沉积。
二是沉积反应必须在一定的能量条件下进行。一般情况下,产生气相沉积的化学反应必须有足够高的温度作为条件,在有些情况下,可以采用等离子体或激光辅助作为条件,降低沉积反应的温度。
涂层技术
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,五金真空镀膜设备,使材料的离化率更高,薄膜性能优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(fca)配有的电磁过滤系统,新北真空镀膜设备,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%,并且可以过滤掉大颗粒,因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。
对于需要更高的表面形态的应用(对于粗糙度,晶粒尺寸,手机真空镀膜设备,化学计量和其他要求比沉积速率更重要的应用),五金配件真空镀膜设备,溅射工艺似乎是一种替代方法。由于在冷却过程中随着温度或基材(聚合物)熔化温度的降低而产生的应力,沉积过程对某些应用提出了温度---。这导致溅射工艺在pvd沉积技术中变得重要,同时又不会忘记基于溅射工艺的新技术的出现,以满足不断增长的市场需求。
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