




在电子学方面真空镀膜更占有较为重要的---。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器,约瑟夫逊器件、电荷耦合器件( ccd )也都甬道各种薄膜。
在元件方面,在真空中蒸发镍铬,铬或金属陶瓷可以制造电阻,在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器,蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。

高频感应蒸发源蒸镀法:
高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈中央,电子真空微米镀膜,使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生---的涡流损失和磁滞损失(对铁磁体),使蒸发材料升温,直至气化蒸发。
优点:
1、蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右。
2、蒸发源的温度均匀稳定不易产生飞溅现象。
3、蒸发材料是金属时,真空微米镀膜,蒸发材料可产生热量。
4、蒸发源一次装料,五金配件真空微米镀膜,无需送料机构,温度容易控制,操作简单。
请问pvd镀膜能否代替化学电镀?
在现阶段,金属真空微米镀膜,pvd镀膜是不能取代化学电镀的,并且除了在不锈钢材料表面可直接进行pvd镀膜外,在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行pvd镀膜前,都需要先对它们进行化学电镀cr(铬)。pvd镀膜主要应用在一些比较的五金制品上,对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做pvd镀膜。
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