真空镀膜设备-饰品真空镀膜设备-拉奇纳米(商家)

溅射（或阴极喷涂）和蒸发是用于薄膜沉积的常用的pvd方法。

在pvd技术中，释放或碰撞的热物理过程将要沉积的材料（目标）转化为原子粒子，然后在真空环境中在气态等离子体条件下将原子粒子定向到基材，通过冷凝或化学反应生成物理涂层。投射原子的积累。该技术的结果是，led真空镀膜设备，要沉积的材料类型具有更高的灵活性，并且可以---地控制沉积膜的成分。连接到高压电源和真空室的两个电极构成了pvd反应器。

cvd法具有如下特点：可在---或低于---压下进行沉积金属、合金、陶瓷和化合物涂层，能在形状复杂的基体上或颗粒材料上沉积涂层。涂层的化学成分和结构较易准确控制，也可制备具有成分梯度的涂层。

涂层与基体的结合力高，真空镀膜设备，设备简单操作方便，硅胶真空镀膜设备，但它的处理温度一般为900-1200℃，饰品真空镀膜设备，工件被加热到如此高的温度会产生以下问题：

（1）工件易变形，心部组织恶化，性能下降。

（2）有脱碳现象，晶粒长大，残留奥氏体增多。

（3）形成ε相和复合碳化物。

（4）处理后的母材必须进行淬火和回火。

（5）不适用于低熔点的金属材料。